Allgemeine Informationen

• Untersuchungsgebiete

  Electron Microscopy
• Techniken

  Scanning Electron Microscopy
  
• Hersteller

  Zeiss
• Herstellungsjahr

  2012
• Gemessene Gr??e

  Dimensions, surface morphology, composition
• Hauptanwendung

  Microscopy with up to nm resolution, material characterization
• Korrelierter Arbeitsablauf verfügbar

  Ja

Spezifikationen des Ger?ts

• Technische Aspkete

  Auriga 40 from Zeiss - FIBSEM - with energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS) from Oxford - X-max 150, In-lens-detector for high resolution, energy selective backscatter electron (EsB)-detector for low kV-range, charge compensation (CC), backscatter detector for high kV range

  holders for 4 and 6 inch wafers, 9-stub-holder for 12,5 mm diameter pin stubs, holder for one dove tail stub

• Korrelierter Arbeitsablauf

  X-ray microscopy (XRM)
• Weitere Untersuchungsm?glichkeiten

  Lift-out system for TEM lamella preparation

Kontaktperson

• Anwendungswissenschaftler

  Eva-Maria Meyer
  Fachbereich 1
  NW1 / O 01120
  Telefonnummer 421 218 62617
  emeyerprotect me ?!imsas.uni-bremenprotect me ?!.de
• Führender Anwendungswissenschaftler

  Bj?rn Lüssem
  

Ger?testandort

• Geb?ude

  NW1
• Raum

  O0080
• Fachbereich

  Fachbereich 1
• Institut Der Universit?t Bremen

  IMSAS